Fujifilm XF 33 mm f/1,4 R LM WR

XF 33 mm f/1,4 R LM WR od FUJIFILM ponúka prirodzenú perspektívu spolu a jasnú maximálnu clonu, je to objektív ekvivalentný 50 mm, ktorý sa vyznačuje jasnou maximálnou clonou f/1,4. Tento dizajn je výhodný pre prácu v náročných svetelných podmienkach a tiež poskytuje väčšiu kontrolu nad hĺbkou ostrosti pre izoláciu objektu a použitie techník selektívneho zaostrovania. Optická konštrukcia využíva dva asférické prvky, ktoré redukujú skreslenie a sférické aberácie s cieľom dosiahnuť vyššiu ostrosť a presné vykreslenie. K dispozícii sú aj tri ED prvky, ktoré redukujú odlesky a duchov pre lepší kontrast a presnosť farieb. To zaisťuje bezkonkurenčné rozlíšenie a svieže, živé farby.Prvotriedny objektív je navrhnutý pre bezzrkadlové fotoaparáty FUJIFILM X-mount formátu APS-C a poskytuje ekvivalentnú ohniskovú vzdialenosť 50 mm.Pôsobivá maximálna clona f/1,4 je vhodná pre prácu v náročných svetelných podmienkach a tiež poskytuje rozsiahlu kontrolu nad hĺbkou ostrosti.Dva asférické prvky a tri prvky ED obmedzujú skreslenie a sférickú aberáciu, aby sa dosiahla väčšia ostrosť a presné vykreslenie.Poskytuje živé, verné farby s minimálnymi optickými chybami a vynikajúcimi detailmi.Výkonne presný motor lineárneho automatického zaostrovania zaisťuje, že obrázky sú vždy zaostrené. Poskytuje tiež dýchanie s minimálnym zaostrovaním a presné manuálne zaostrovanie až do minimálnej zaostrovacej vzdialenosti 11,8".Zaoblená deväťlamelová membrána prispieva k príjemnej kvalite bokehu.Celokovová konštrukcia tubusu objektívu je vyrobená tak, aby odolala prachu, vlhkosti a teplotám až do -10°C.